Kathoden und Targets für Dekorative Beschichtung & Hartbeschichtungen 
Mit Hilfe der Hoch-Vakuum-Beschichtung (PVD-Physical Vapour Deposition) werden Werkstoffe mit einer sehr dünnen metallischen Beschichtung versehen. Wir liefern Targets und Kathoden für Ihre Sputteranlagen und auch Beschichtungsmaterial für Ihre Elektronenstarhl-Verdampfungsanlagen.
Durch das Aufbringen von dünnsten Schichten aus Kupfer, Auminium, Gold oder Silber sind verschiedene metallische Effekte wie Edelstahl-, Aluminium-, Altmessing- oder Goldeffekte möglich. Darüber hinaus wird ein verschleißfester Korrosionsschutz erreicht.
Die dekorative Kunststoff-Metallisierung durch Vakuumbeschichtung erweitert die Möglichkeiten bei der Gestaltung von Werkstoffoberflächen enorm. So lassen sich z.B. Metallteile teilweise oder vollständig durch Kunststoffe ersetzen. Die Vakuumbeschichtung wird u.a. in der Automobilindustrie und bei Gehäusen von Mobiltelefonen usw. eingesetzt.
Wir bieten Ihnen ein breites Spektrum von Sputtering Targets mit einer sehr hohen Reinheit und exzellenten Eigenschaften für dekorative Beschichtungen und Hartbeschichtungen.
Wir freuen uns auf Ihre Anfrage für einzelen Sputter Targets oder auch große Mengen. Unsere Qualität und Preise werden Sie überzeugen.
| Element |
Formel |
Reinheit % | Dichte (g/cm³) |
| Titanium Aluminum | TiAl 33/67 at% | 99,5-99,9 | 3,3 |
| Titanium Aluminium | TiAl 50/50at% | 99,5-99,9 | 3,6 |
| Titanium Aluminium | TiAl 60/40at% | 99,5-99,9 | 3,82 |
| Aluminium Chromium | AlCr 50/50at% | 99,5-99,9 | 4,57 |
| Aluminium Chromium | AlCr 70/30at% | 99,5-99,9 | 3,76 |
| Nickel Vanadium | NiV 93/7wt% | 99,9 | 8,6 |
| Thungsten Titanium | Wti 90/10wt% | 99,9 | 14,8 |
| Chromium | Cr | 99,5-99,9 | 7,19 |
| Zirconium | Zr | 99,2-99,9 | 6,5 |
| Tianium | Ti | 99,6-99,995 | 4,51 |
| Nickel | Ni | 99,9-99,99 | 8,9 |
| Thungsten | W | 99,95 | 19,3 |
| Gold | Au | 99,99 | 19,3 |
| Silver | Ag | 99,99 | 10,5 |
| Copper | Cu | 99,9-99,999 | 8,96 |
| Aluminium | Al | 99,5-99,999 | 2,70 |
| Stainless Steel | SS | 316L | / |
| Silicon Dioxide | SiO2 | 99,9-99,999 | 2,2 |
| Aluminium Oxide | AlO3 | 99,99 | 4,0 |
| Titanium Dioxide | TiO2 | 99,9-99,99 | 4,3 |
| Tantalum Pentoxide | Ta2O5 | 99,99 | 8,7 |
| Zinc Sulfide | ZnS | 99,99 | 4,1 |
| Boron Carbide | B4C | 99,5 | 2,48 |
| Boron Nitride | BN | 99,5 | 2,1 |
| Titanium Nitride | TiN | 99,5 | / |
| Molybdenum Disulfide | MoS2 | 99,5 | 4,8 |
| Silicon Nitride | Si3N4 | 99,5 | / |
| Aluminium Nitrid | AIN | 99,5 | / |
| Silicon Carbide | SiC | 99,5 | 2,75 |
© 2015 Hubert Heusner 
